貨號 | 操作 | 名稱 | 描述 |
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圖片 | 名稱 | 貨號貨期 | 描述 | 價格 |
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產品的好處:
?優秀衍射效率
? 特殊衍射波前誤差
? 全光圈均勻度高
?高激光損傷閾值
? 曲線可以用于聚焦應用
產品適用范圍 :
?脈沖壓縮用于緊湊典型、商用飛秒激光器
? 波束組合(SBC)為平均功率激光非常高
? 高強度球形和圓柱形聚焦元件,用于科學激光和工業退火應用
產品特點:
光柵典型 | 傳輸 |
衍射效率 | 典型.93– 96% |
衍射波前誤差 | < λ / 4(大小相關) |
光損傷閾值 | 15 J/cm2 @1054 nm, 10 ns |
頻帶寬度 | 典型. 10’s to > 100 nm |
透射光柵需要非常深的溝槽深度來實現高衍射效率,所需順序-通常3 - 10倍深度比MLD光柵和鍍金光柵,PGL開發基于深度蝕刻工藝反應離子蝕刻(RIE)可以直接獲得> 2.5μm溝槽深
在熔融石英襯底,該工藝高均勻性和掃描光束干涉光刻精度,納米光柵刻寫技術產生特殊的衍射波前誤差性能。
優質減反射(AR)涂層對于傳輸光柵也是至關重要的。
PGL薄膜涂層方面經驗使我們能夠親自生產優化薄膜涂層為所有透射光柵能設計AR涂層,由此產生的光柵是理想的緊湊,,從激光脈沖壓縮機到光譜儀的商業系統。
產品詳細信息:
PGL光柵曝光和蝕刻工藝產生異常光滑,使一致,深格柵槽對于可忽略的衍射波前誤差均勻性和衍射效率高。
下圖理論顯示衍射效率與輸入波長和入射角的關系,對于優化為800 nm的1200 l/mm光柵,實際光柵通常比理論低1 - 2%。
聚焦光柵
除了PGL的SBIL許多優點之外標準光柵的光柵刻寫技術-高衍射效率,一致占空比和周期
可重復性10ppb從部分到部分-納米尺能輕易地產生彎曲光柵線,作為一個結果,我們可以同時生產球形和圓柱聚焦光柵。