貨號 | 操作 | 名稱 | 描述 |
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圖片 | 名稱 | 貨號貨期 | 描述 | 價格 |
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產品的好處:
?特殊衍射,波前誤差
? 超過全光圈,均勻性好
? 堅固蝕刻結構
?優秀特色的定位精度
? 空間變化周期在兩個維度上都是可能的
產品適用范圍 :
?脈沖啁啾放大
?頻譜組束
?精密定位及計量
? 高強度激光主要元素為球形和圓柱形
產品特點:
尺寸 | 可達 920mm × 600mm |
周期/頻率 | 200nm - 20μm / 50 - 5000行/mm |
衍射,波前誤差 | < l/4 PV (typ. RMS < 1 nm/inch!) |
基板材料 | 品種(Shou選熔融二氧化硅) |
鍍膜原料 | 品種繁多(金屬和電介質) |
PGLShou次將掃描光束干涉光刻技術商業化是最初由麻省理工學院Shou創的,用于生產米級多層材料
介質(MLD)衍射光柵,具有優異的均勻性,高激光損傷閾值,真空應力低。
PGL隨后擴展了其技術包括金屬反射光柵、透射光柵、二維光柵,甚至包括曲線的聚焦光柵。
我們重點在于激光器和激光系統的光柵在科學研究中的應用工業、醫療、國防和半導體市場。
PGL開發不僅在光柵作品,而且在光學涂層,反應性離子蝕刻,光學計量和精密清洗,檢查和處理方面具有特殊的光學專業知識。
產品詳細信息
以下表說明了最流行的PGL光柵的規格、典型值和限值,PGL的不一樣能力使我們能夠制造具有可變周期和相同槽方向的光柵,我們的標準直線光柵的效率,均勻性和可重復性,從而實現啁啾和聚焦光柵,今天就告訴我們你的申請吧。
光柵型 | 反射 | 反射 | 傳輸 | 反射或傳輸 |
衍射效率 | 典型. 95 – 98% | 典型 91 – 94% | 典型93 – 96% | 多級波片 |
波前誤差[1] | < l/3 | < l/4 | < l/4 | < l/4 |
損傷閾值 | 高(2.5 J /平方厘米1054 nm (10ps) | 中(0.25 J /平方厘米800 nm (100 fs) | 中-高 (10秒至> 100納米) | 中-高 (視類型而定) |
頻帶寬度 | 中(型30 - 40 nm) | 高(可達~ 200nm) | 中-高(10秒至> 100納米) | 低 (型 單l) |
Max. 尺寸[2] | 920 mm × 600 mm | 920 mm × 600 mm | 470 mm × 470 mm | 920 mm × 600 mm |
[1]取決于承印物尺寸和縱橫比
[2]除了受蝕刻設備限制更深的透射光柵外,主要受當前納米控制器配置限制